「大空頭」向AI宣戰,半導體設備股過熱了?
週一美股半導體設備板塊集體走強,核心標的普遍出現明顯拉升: $應用材料 (AMAT.US)$ 漲約10.7%, $科磊 (KLAC.US)$ 漲約12.0%, $泛林集團 (LRCX.US)$ 漲約8.3%, $ACM Research (ACMR.US)$ 漲約13.9%, $泰瑞達 (TER.US)$ 漲約6.3%, $阿斯麥 (ASML.US)$ 漲約4.9%。
Applied Materials週一創歷史新高,主要受到多家券商上調目標價推動,其中Cantor將AMAT目標價從650美元上調至850美元,KeyBanc從550美元上調至750美元,核心邏輯都是AI基礎設施擴張帶動設備需求。
AI擴產的錢,開始流向「賣鏟子」的公司?半導體設備是否可能成爲AI硬件鏈下一階段的新主線?
如何理解半導體設備股的上漲邏輯?
SEMI於6月11日發佈報告,將2026年全球前端半導體設備市場規模增速預期從此前的16.5%大幅上調至23.5%,達1522億美元。Q1全球半導體設備出貨額達365.5億美元,同比+14%,創下歷史單季度新高。
而 $美光科技 (MU.US)$ 最新業績週期中顯示資本開支顯著上行。美光Q3資本開支是71億美元,Q4預計約100億美元,全年FY2026資本開支約270億美元。更關鍵的是,公司明確說FY2027單季資本開支會高於Q4水平,是明顯擴產週期。
不只是美光,整個行業都在加速買設備、拉產能。昨日韓國政府提出「三大項目」中,三星集團宣佈約2,655萬億韓元韓國投資,其中約2,100萬億韓元投向半導體。SK集團 $SK海力士 (000660.KR)$$南方兩倍做多海力士 (07709.HK)$ 宣佈約2,100萬億韓元投資,其中約1,100萬億韓元投向存儲,約1,000萬億韓元投向AI基礎設施。投資時間跨度很長,三星 $南方兩倍做多三星電子 (07747.HK)$ 到2040年、SK到2033年,實際落地節奏仍會受存儲供需週期影響。
AI需求強 → 存儲和先進芯片供不應求 → 台積電、三星、美光、SK海力士擴產 → 需要買更多設備 → HBM堆疊層數越高 →工藝步驟越複雜 → 設備強度上升 →每一美元存儲Capex裏,設備商能拿到更多價值量。
市場最關注的是資金流向。JPM合併測算,這一長期計劃規模約4,755萬億韓元,約3.1萬億美元。在約3.1萬億美元長期投資計劃中,約60%-70%可能流向前道晶圓設備,約20%-30%流向基礎設施和潔淨室建設,其餘用於後道封裝設施。
對存儲股:短期有爭議,中長期偏正面
如何看待存儲大廠的資本開支和產能的未來擴張?擴產是否意味着供應的增加和價格的下行呢?
JPM觀點認爲如果行業處在週期中後段,擴產確實可能被解讀爲利空;但如果當前仍是AI存儲上行週期的早中段,擴產反而說明需求強到必須加大供給。
目前情況更接近後者。Apple與美光爭議反映當前存儲漲價已經影響到下游消費電子廠商。當前利潤分配明顯有利於存儲廠,但由於供需缺口真實存在,下游品牌即使想轉向中國DRAM供應商,也未必能拿到足夠量。即使中國DRAM廠商有大規模資本開支意願,新增供給仍可能不足以填補AI和服務器存儲需求帶來的缺口。
另一方面,美光FY2027資本開支增加里,超過一半來自建設類資本開支,也就是cleanroom、廠房、基礎設施,不是馬上轉成出貨的設備產能。
新建fab、裝機、調試、爬坡,通常要2年以上。美光的美國Idaho新廠第一片晶圓要到2027年中,第二座到2028年底;新加坡HBM封裝能力也是2027年上半年才開始貢獻。這意味着2027年確實會看到新增供給啓動,但真正能影響市場價格,通常要再經過爬坡、良率提升、客戶認證和量產交付。
監管風險也是近期另一個爭議點。美國已有針對三大DRAM廠商的集體訴訟,指控其可能通過製造短缺推高價格。但目前看,這還是消費者層面的民事訴訟,沒有看到政府正式調查介入,和真正的反壟斷調查不一樣。
消費者集體訴訟會製造股價波動,但它通常需要很長時間舉證、審理、和解。短期很難直接要求廠商降價、擴產,或者改變合同模式。
這類指控在存儲行業歷史上並不少見,早年DRAM反壟斷案也有先例。2000年代初,DRAM廠商曾因價格操縱案支付罰款和和解款。2016-2017年也出現過類似「限制供給」的指控。但歷史經驗看,這類案件即便成立,也往往是多年之後才體現爲罰款或和解。它對短期股價情緒有擾動,對當下供需週期的影響相對有限。
風險需要跟蹤,但暫時不是壓倒性因素。
哪個環節最受益?——前道晶圓設備
從資金流向看,前道晶圓設備最直接受益。
存儲擴產尤其依賴前道設備,尤其是3D NAND,層數越高,刻蝕和沉積難度越大;HBM背後也需要更先進的DRAM製造能力,工藝複雜度、良率和製程控制要求更高,設備價值量會顯著上升。
所以存儲擴產會直接拉動LRCX、AMAT、KLAC這類公司。

前道晶圓製造設備,簡單說就是:在晶圓上把芯片「做出來」的設備。主要包括刻蝕、沉積、清洗、離子注入、薄膜、檢測量測等環節。

1、AMAT:綜合設備龍頭,勝在覆蓋面,EPS增長最均衡
AMAT是半導體設備裏覆蓋面最廣的公司之一。它不只受益於單一環節,而是同時覆蓋沉積、刻蝕、離子注入、先進封裝、服務等多個方向。
它的EPS增長點主要有三塊。
第一,WFE總盤子擴大。Citi設備報告預計,牛市情景下全球WFE有望從2026年的約1450億美元,提升到2027年的約2000億美元、2028年的約2500億美元。AMAT覆蓋面廣,因此最能吃到行業總量擴張。
第二,先進封裝和DRAM/HBM拉動。AI芯片和HBM對材料工程、沉積、互連、封裝工藝要求更高。AMAT不只是前道設備公司,也有先進封裝敞口。AMAT管理層此前預計2026年半導體設備業務增長超過30%,封裝業務增長超過50%。這說明它的增長點不只來自傳統晶圓廠擴產,還來自AI封裝升級。
第三,服務收入提高利潤穩定性。設備賣出去以後,還會帶來長期維護、升級、零部件和服務收入。服務業務佔比越高,AMAT的盈利波動就越低,市場也更願意給高估值。
2、LRCX:存儲擴產最直接的彈性標的
LRCX是這一輪設備股裏彈性最好的方向,它和存儲擴產綁定最深。
LRCX的EPS增長點主要來自三塊。
第一,DRAM/HBM擴產。HBM本質上依賴先進DRAM產能。AI服務器對HBM需求越強,SK海力士、三星、美光就越需要增加先進DRAM相關資本開支,這會直接拉動LRCX的刻蝕和沉積設備需求。
第二,NAND設備需求可能被低估。Citi報告特別強調,DRAM供給瓶頸會推動更多AI推理架構使用NAND作爲補充存儲層,這意味着市場原本只關注HBM和DRAM,但後面NAND也可能出現設備投資增量。LRCX在NAND相關刻蝕、沉積裏優勢明顯,因此彈性更高。
第三,存儲資本開支週期上修。Lam最新季度收入達到58.4億美元,創紀錄,管理層也明確提到AI需求正在重塑半導體行業。公司在中國、韓國、臺灣都有較高收入佔比,其中韓國和臺灣收入合計佔比不低,正好對應存儲和先進製造擴產區域。
3、KLAC:良率控制龍頭,確定性強但彈性較小
KLAC做的是檢測、量測、過程控制。芯片越先進、封裝越複雜、HBM堆疊越難,良率控制越重要。
它的優勢是商業質量高,客戶粘性強,業績波動相對小。KLA此前也強調,公司受益於AI基礎設施建設,覆蓋邏輯、存儲、先進封裝和服務等方向。
4、ASML:護城河最強
ASML是光刻機龍頭,EUV幾乎沒有替代者。長期看,它仍是全球半導體設備裏壁壘最高的公司。
AI芯片、先進邏輯、先進DRAM都需要更先進光刻能力。只要TSMC、三星、Intel繼續推進先進製程,ASML訂單就有支撐。
5、TER:測試環節彈性強,但漲得太急
TER主要受益於測試需求,包括AI芯片測試、HBM測試、先進封裝後測試。HBM和存儲測試增長。HBM堆疊後對良率和可靠性要求很高,測試環節重要性上升。客戶結構向AI傾斜。Teradyne一季度收入12.82億美元,同比增長87%,公司表示約70%的收入與AI相關需求有關。
6、ACMR:清洗設備小票,彈性最大,風險也最大
ACMR主要看中國半導體設備國產替代和清洗設備需求。ACMR旗下最重要的運營主體是盛美上海/ACM Research Shanghai,大部分收入長期來自中國客戶。
它的優點是市值小、彈性大,一旦中國晶圓廠擴產或者國產設備情緒升溫,股價反應會很快。國產替代提升市佔率。清洗設備技術壁壘低於EUV、刻蝕、沉積,但國產替代空間更大,ACMR有機會通過市佔率提升帶動收入增長。
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